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申请/专利权人：鄂尔多斯市隆基硅材料有限公司
摘要：本发明公开一种硅片清洗方法，涉及单晶硅棒生产技术领域。该硅片清洗方法能够简化硅片清洗工序并降低清洗成本。该硅片清洗方法包括：于第一预设清洗温度，在第一清洗槽内利用清洗液清洗硅片，以获得第一硅片；于第二预设清洗温度，在第二清洗槽内利用阴极电解离子水清洗第一硅片，以获得第二硅片；于相应预设清洗温度，在漂洗槽内清洗所述第二硅片，以获得漂洗硅片；阴极电解离子水通过电解池电解自来水得到，并且阴极电解离子水的成分包括H2O分子、OH‑离子。
主权项：1.一种硅片清洗方法，其特征在于，步骤为：提供盛装有清洗液的第一清洗槽，于第一预设清洗温度，在所述第一清洗槽内清洗硅片，以获得第一硅片；提供盛装有阴极电解离子水的第二清洗槽，于第二预设清洗温度，在所述第二清洗槽内清洗所述第一硅片，用于去除所述第一硅片上的酯类有机物，以获得第二硅片；提供至少一个盛装有所述清洗液的漂洗槽，于相应预设清洗温度，在所述漂洗槽内清洗所述第二硅片，以获得漂洗硅片；其中，所述阴极电解离子水为通过电解池电解自来水得到，并且所述阴极电解离子水的成分包括H2O分子、OH-离子；所述清洗液为自来水或纯水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 鄂尔多斯市隆基硅材料有限公司 一种硅片清洗方法
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