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申请/专利权人:四川宏瑞得新材料科技有限公司
摘要:本实用新型公开了一种等静压石墨高压浸渍用支架,涉及石墨高压浸渍支架。包括石墨浸渍机构,所述石墨浸渍机构包括固定底座,所述固定底座的一侧安装有操控面板,所述固定底座的顶部固定连接有支撑柱,且支撑柱的数量为四个,所述支撑柱顶部固定安装有浸渍筒,所述浸渍筒的表面安装有封闭调节组件,所述封闭调节组件的表面安装有浸渍支架组件,所述浸渍筒的表面安装有浸渍调节组件;本实用新型能够对等静压石墨进行浸渍处理,有利于对等静压石墨进行高压、高温浸渍操作,提升石墨浸渍处理的效果,提供石墨后续使用的性能,同时还能够对浸渍支架进行调节操作,有利于对石墨进行取放浸渍,为工作提供便利,提升装置的实用性。
主权项:1.一种等静压石墨高压浸渍用支架,其特征在于,包括:石墨浸渍机构(1);所述石墨浸渍机构(1)包括固定底座(101),所述固定底座(101)的一侧安装有操控面板(102),所述固定底座(101)的顶部固定连接有支撑柱(103),且支撑柱(103)的数量为四个,所述支撑柱(103)顶部固定安装有浸渍筒(104),所述浸渍筒(104)的表面安装有封闭调节组件(105),所述封闭调节组件(105)的表面安装有浸渍支架组件(106),所述浸渍筒(104)的表面安装有浸渍调节组件(107)。
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