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涂敷方法及片材 

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申请/专利权人:日本发条株式会社

摘要:本发明提出一种涂敷方法,其在使用增加了填料的含有率的涂敷液在基材的表面形成涂膜时,抑制涂膜不均且也可抑制涂膜的膜厚偏差。一种涂敷方法,使用涂敷装置1在基材W的表面形成涂膜C,所述涂敷装置1具有:搬送辊2,送出基材W;刮刀式涂布机3,相对于搬送辊2隔开间隙地配置且设置有刮刀部3b;以及贮液构件4,一端部4a位于搬送辊2的侧方且在与搬送辊2之间划分贮液空间S,所述涂敷方法中,涂敷液L包含树脂、溶剂及填料,填料的含有率相对于树脂与填料的混合物100质量份而为65质量份~95质量份,搬送辊2的外径D1为50mm~270mm,刮刀式涂布机3的外径D2为50mm~170mm,自间隙至一端部4a为止的距离D3为1mm~120mm。

主权项:1.一种涂敷方法,使用涂敷装置在基材的表面形成收容于贮液构件中的涂敷液的涂膜,所述涂敷装置具有:搬送辊,送出经卷绕的长条状的所述基材;刮刀式涂布机,在所述搬送辊的上方相对于所述搬送辊隔开间隙地配置且为圆柱状或圆筒状并设置有刮刀部;以及所述贮液构件,一端部位于所述搬送辊的侧方且在与所述搬送辊之间划分贮液空间,所述涂敷方法中,所述涂敷液包含树脂、溶剂及填料,所述填料的含有率相对于所述树脂与所述填料的混合物100质量份而为65质量份~95质量份,所述搬送辊的外径为50mm~270mm,所述刮刀式涂布机的外径为50mm~170mm,自所述间隙至所述贮液构件的所述一端部为止的距离为1mm~120mm。

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权利要求:

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