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喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂敷装置 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置,在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时,能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时,在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置,即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中,在喷嘴抵接构件通过边界位置时,即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时,相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果,处理液的残留量被大幅削减。

主权项:1.一种喷嘴清洗装置,对从设置于从喷嘴的主体部向下方突出的下端部的狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴进行清洗,其特征在于,具有:喷嘴抵接构件,与所述喷嘴的下端部自由抵接;移动部,使所述喷嘴抵接构件以与所述喷嘴的下端部保持抵接的状态在所述喷出口的延伸设置方向上相对于所述喷嘴相对地移动;以及速度控制部,控制所述移动部对所述喷嘴抵接构件的移动速度,在所述下端部设置有从所述主体部向下方突出的突出量为恒定的突出部位、以及随着向所述延伸设置方向前进所述突出量比所述突出部位的所述突出量连续地或非连续地减少而向所述主体部侧后退的后退部位时,通过所述移动部而相对于所述喷嘴相对地移动的所述喷嘴抵接构件在所述突出部位上移动时、从所述突出部位向所述后退部位移动时、以及在所述后退部位上移动时,与铅垂方向上的位置被维持为恒定的所述喷嘴的下端部持续抵接,所述速度控制部在所述突出部位使所述喷嘴抵接构件以第一移动速度移动,另一方面,在所述喷嘴抵接构件从所述突出部位向所述后退部位移动时,使所述喷嘴抵接构件的移动速度从所述第一移动速度减速。

全文数据:

权利要求:

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