龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明提供一种套刻误差量测准确度评估方法，包括：设置套刻标识；完成前层的光刻、刻蚀工艺，将前层套刻标识形成在前层上；第一次完成当层的光刻，量测当层对前层的套刻误差；根据第一次的套刻误差量测结果生成补偿值，在特殊区域生成预设的特殊补偿值；对晶圆进行返工，根据生成的补偿值进行二次曝光；再次测量二次曝光后的套刻误差，将预设的特殊补偿值与量测得到的特殊补偿值进行相关性分析，或者将补偿后实际量测的套刻误差与补偿后预测的的套刻误差进行相关性分析；根据相关性分析结果判断量测的准确度。本发明方便快速的对线上的量测方式进行评估；灵活性较大，通过特殊区域的特殊补偿值的设置排除晶圆边缘标识受其他工艺过程的影响。
主权项：1.一种套刻误差量测准确度评估方法，其特征在于，包括：S1、设置套刻标识，所述套刻标识包括匹配的前层套刻标识与当层套刻标识，设置套刻误差的量测程式；S2、晶圆包括前层和当层，完成所述前层的光刻、刻蚀工艺，将所述前层套刻标识形成在所述前层上；S3、第一次完成所述当层的光刻工艺过程，使用所述量测程式量测所述当层对所述前层的套刻误差；S4、根据第一次的套刻误差量测结果生成套刻误差的补偿值，具体在所述当层的普通区域生成普通补偿值，特殊区域生成预设的特殊补偿值；S5、对S3曝光完成后的所述晶圆进行返工，根据S4生成的所述补偿值进行二次曝光；S6、再次使用所述量测程式测量二次曝光后的套刻误差，将所述预设的特殊补偿值与量测得到的特殊补偿值进行相关性分析，或者将补偿后实际量测的套刻误差与补偿后预测的的套刻误差进行相关性分析；S7、根据相关性分析结果判断量测的准确度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 套刻误差量测准确度评估方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号