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一种低辐射强度、高力学强度的聚氨酯涂层、其制备方法及应用 

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申请/专利权人:中国科学院长春应用化学研究所

摘要:本发明提供了一种低辐射强度、高力学强度的聚氨酯涂层及其制备方法,包括以下重量份数的制备原料:聚多元醇16~20份、交联剂0.5~2份、异氰酸酯6~8份、流平剂0.1~0.2份、润湿剂0.05~0.2份、抗氧化剂0.2~0.4份、紫外助剂0.3~0.4份、光稳定剂0.3~0.4份、爽滑剂0.1~0.15份、催化剂0.01~0.03份、溶剂70~75份;所述交联剂为环氧环己烷与异丙醇胺反应得到。本发明中制备的聚氨酯涂层在具备低辐射强度的同时,其耐磨性能、透光率、雾度及力学强度等其他性能也处于测试标准内较高水平,是综合性较强的功性性防护涂层。本发明还提供了一种上述聚氨酯涂层的应用。

主权项:1.一种低辐射强度、高力学强度的聚氨酯涂层,包括以下重量份数的制备原料:聚多元醇16~20重量份、交联剂0.5~2重量份、异氰酸酯6~8重量份、流平剂0.1~0.2重量份、润湿剂0.05~0.2重量份、抗氧化剂0.2~0.4重量份、紫外助剂0.3~0.4重量份、光稳定剂0.3~0.4重量份、爽滑剂0.1~0.15重量份、催化剂0.01~0.03重量份、溶剂70~75重量份;所述交联剂由环氧环己烷与异丙醇胺反应得到,所述环氧环己烷的重量份数为70~75份,异丙醇胺的重量份数为25~30份;所述异氰酸酯为4,4'-二环己基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体,异佛尔酮二异氰酸酯三聚体中的一种或几种,上述异氰酸酯至少包含六亚甲基二异氰酸酯三聚体或异佛尔酮二异氰酸酯三聚体。

全文数据:

权利要求:

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