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防护膜组件框、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法 

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申请/专利权人:三井化学株式会社

摘要:本发明的目的在于提供可抑制由防护膜的张力引起的应变并且能够抑制由防护膜组件框的变形引起的原版的应变的防护膜组件框、防护膜组件以及防护膜组件的制造方法。防护膜组件框具备用于支撑防护膜的硬质框构件12A和用于与具有图案的原版连接的软质框构件11X。软质框构件11X与前述硬质框构件12A连接。前述软质框构件11X是由基材层112和粘着层111在与前述防护膜的面方向正交的厚度方向上以前述粘着层111配置于两端的方式交替层叠而成的。前述硬质框构件12A的杨氏模量高于前述软质框构件11X的表观杨氏模量。前述硬质框构件12A的杨氏模量为25GPa以上。

主权项:1.一种防护膜组件框,其具备:用于支撑防护膜的硬质框构件、和与所述硬质框构件连接的、用于与具有图案的原版连接的软质框构件,所述软质框构件是由基材层和粘着层在与所述防护膜的面方向正交的厚度方向上以所述粘着层配置在两端的方式交替层叠而成的,所述硬质框构件的杨氏模量高于所述软质框构件的表观杨氏模量,所述硬质框构件的杨氏模量为25GPa以上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三井化学株式会社 防护膜组件框、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

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