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申请/专利权人：恩特格里斯公司
摘要：公开一种可暴露于例如钼蒸气、钨蒸气或其任何组合的化学蒸气的装置，所述装置具有覆盖其至少一部分的涂层。所述涂层减少或抑制所述装置的外表面暴露于蒸气时的质量改变。在某些情形中，所述质量改变为质量增加，且所述涂层减少或抑制等于或小于1x10‑5gmm‑2的质量增加。
主权项：1.一种装置，其包括：涂层，其覆盖所述装置的至少一部分，其中所述涂层经配置以暴露于蒸气，其中所述涂层减少或抑制所述装置的外表面暴露于所述蒸气时的质量改变。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 恩特格里斯公司 用于输送钼蒸气的装置及方法
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