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申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
摘要：本发明提供了一种Nord闪存及Nord闪存电性参数的测试方法，包括衬底，衬底分为器件区、连接区和外围区，器件区用于形成存储结构，连接区用于将控制栅层连出，外围区用于形成外围电路；在器件区的衬底上和外围区的衬底上分别形成有浮栅层、层间介质层、控制栅层以及位于控制栅层之间的字线，字线还通过隧穿氧化层和氮化物侧墙与控制栅层和层间介质层隔开，字线通过隧穿氧化层与浮栅层隔开，其中，外围区的层间介质层露出部分浮栅层的表面。通过对外围区的字线和连接区的控制栅施加电压，测试外围区浮栅层上的电压检测了控制栅层与浮栅层的耦合系数以及字线与浮栅层的耦合系数，同时，还监控到了层间介质层质量。
主权项：1.一种Nord闪存，其特征在于，包括：衬底，所述衬底分为器件区、连接区和外围区，所述器件区用于形成存储结构，所述连接区用于将控制栅层连出，所述外围区用于形成外围电路；在所述器件区的所述衬底上和所述外围区的衬底上分别形成有浮栅层、层间介质层、控制栅层以及位于控制栅层之间的字线，所述字线还通过隧穿氧化层以及氮化物侧墙与所述控制栅层以及层间介质层均隔开，所述字线通过所述隧穿氧化层与所述浮栅层隔开，其中，所述外围区的层间介质层露出部分所述浮栅层的表面。
全文数据：
权利要求：
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