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用于对微流体装置进行照射的照射装置、具有照射装置的分析设备以及用于对微流体装置进行照射的方法 

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申请/专利权人:罗伯特·博世有限公司

摘要:本发明涉及一种照射装置200,其用于对布置在分析设备的接纳区域中的微流体装置进行照射。在此,照射装置200包括布置在载体元件205处的荧光层210,所述荧光层具有至少一个荧光区域215,该荧光区域构造用于以通过激发光束220激发的方式输出荧光光束225,其中所述载体元件205构造成对于荧光光束225的波长是透明的。此外,照射装置200包括布置在所述载体元件205的与荧光层210相对置的侧部上的光学层230,所述光学层具有至少一个光学区域235,该光学区域构造用于将荧光光束225转化成聚焦的聚焦光束240并且使所述聚焦光束240朝向微流体装置105的目标区域转向。

主权项:1.一种照射装置200,其用于对布置在分析设备100的接纳区域110中的微流体装置105进行照射,其中所述照射装置200具有以下特征:布置在载体元件205处的荧光层210,所述荧光层具有至少一个荧光区域215,该荧光区域构造用于以通过激发光束220激发的方式输出荧光光束225,其中所述载体元件205构造成对于荧光光束225的波长是透明的;以及布置在所述载体元件205的与荧光层210相对置的侧部上的光学层230,所述光学层具有至少一个光学区域235,该光学区域构造用于将荧光光束225转化成聚焦的聚焦光束240并且使所述聚焦光束240朝向微流体装置105的目标区域300转向。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗伯特·博世有限公司 用于对微流体装置进行照射的照射装置、具有照射装置的分析设备以及用于对微流体装置进行照射的方法

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