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申请/专利权人：尼康SLM方案股份公司
摘要：在操作用于使用激光辐射来照射原料粉末层以生产三维工件110的照射系统10的方法中，使用具有不超过99％且不小于30％的偏振度DOP的线性偏振激光辐射来选择性地照射施加到载体102上的原料粉末层11的至少一部分。根据线性偏振激光辐射在原料上的入射平面的定向来控制线性偏振激光辐射的偏振平面的定向。
主权项：1.一种操作照射系统10的方法，所述照射系统用于使用激光辐射来照射原料粉末层以生产三维工件110，其中，使用具有不超过99％且不小于30％的偏振度DOP的线性偏振激光辐射来选择性地照射施加到载体102上的原料粉末层11的至少一部分，并且其中，根据所述线性偏振激光辐射在所述原料上的入射平面的定向来控制所述线性偏振激光辐射的偏振平面的定向。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 尼康SLM方案股份公司 操作照射系统的方法、照射系统及用于生产三维工件的装置
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