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申请/专利权人：布勒阿尔策瑙有限责任公司
摘要：本公开涉及一种磁控管溅射系统，所述磁控管溅射系统包括要涂覆的衬底和磁控管溅射装置，所述磁控管溅射装置包括至少一个可旋转管状阴极、位于阴极和衬底之间的掩模和至少一个磁体，其中磁体可倾斜地支撑在管状阴极内部。系统进一步包括控制器，其中控制器被配置成控制至少一个磁体相对于要涂覆的衬底的倾斜和或至少一个可旋转管状阴极相对于要涂覆的衬底的倾斜，以用于调节衬底上的涂覆均匀性。
主权项：1.一种磁控管溅射系统包括：要涂覆的衬底，磁控管溅射装置，包括：至少一个可旋转管状阴极1，位于所述阴极1和所述衬底之间的掩模3，以及至少一个磁体2，其中所述磁体2可倾斜地支撑在所述管状阴极1内部，其中所述系统进一步包括控制器，其中所述控制器被配置成控制所述至少一个磁体2相对于要涂覆的所述衬底的倾斜和或所述至少一个可旋转管状阴极1相对于要涂覆的所述衬底的倾斜，以用于调节所述衬底上的涂覆均匀性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 布勒阿尔策瑙有限责任公司 具有管状溅射阴极的磁控管溅射系统以及用于控制层厚度的方法
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