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申请/专利权人：田中贵金属工业株式会社
摘要：一种Co‑Cr‑Pt‑B系强磁性材料溅射靶，其特征在于，包含Co‑Cr‑Pt‑B合金相A和合金相B，所述Co‑Cr‑Pt‑B合金相A含有大于0原子%且30原子%以下的B并且B分布于整体而没有B聚集相的不均匀分布，所述合金相B为Co‑B合金、Co‑Cr‑B合金或Co‑Pt‑B合金中的任一种合金，含有大于0原子%且20原子%以下的B并且B分布于整体而没有B聚集相的不均匀分布，合金相A在溅射靶中占50体积%以上，合金相B在溅射靶中占小于50体积%。
主权项：1.一种Co-Cr-Pt-B系强磁性材料溅射靶，其特征在于，包含：Co-Cr-Pt-B合金相A，其含有大于0原子%且30原子%以下的B，B分布于整体而没有B聚集相的不均匀分布；以及合金相B，其为Co-B合金、Co-Cr-B合金或Co-Pt-B合金中的任一种合金，含有大于0原子%且20原子%以下的B，B分布于整体而没有B聚集相的不均匀分布，该合金相A在溅射靶中占50体积%以上，该合金相B在溅射靶中占小于50体积%。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 田中贵金属工业株式会社 Co-Cr-Pt-B系强磁性材料溅射靶
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