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申请/专利权人：江苏雷博微电子设备有限公司

摘要：本申请涉及涂膜材料厚度测量技术领域，具体涉及一种用于大尺寸旋涂的膜厚精准测量方法，该方法包括：采集对超声波换能器施加的激励信号以及半导体基材表面各采样点处的回波信号；依据激励信号以及各采样点处的回波信号中零点的分布，将回波信号划分为各波形区间；获取各波形区间的中心点，依据关于中心点对称的回波信号点之间的差异得到波形干扰度；根据不同位置的采样点处的波形区间之间的差异对波形干扰度进行优化；根据优化后的波形区间干扰度获得各波形区间的最优滤波窗口长度；根据最优滤波窗口长度对回波信号进行滤波；根据所有采样点处滤波后的回波信号以及波形区间干扰度获得半导体基材涂膜的膜厚，提高膜厚测量的精度。

主权项：1.一种用于大尺寸旋涂的膜厚精准测量方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：S10，采集对超声波换能器施加的激励信号以及半导体基材表面各采样点处的回波信号；S20，依据激励信号以及各采样点处的回波信号中零点的分布，将回波信号划分为各波形区间；S30，获取各波形区间的中心点，依据关于中心点对称的回波信号点之间的差异得到波形干扰度；S40，根据不同位置的采样点处的波形区间之间的差异对波形干扰度进行优化；优化过程包括：S41，根据所有采样点排列得到的各采样点序列中所有采样点的回波信号，获得膜厚衰减特性值；S42，获取各同心圆，根据位于同一同心圆上的采样点所属的采样点序列的膜厚衰减特性值，获得膜厚测量同心度；S43，结合膜厚衰减特性值与膜厚测量同心度对各波形区间的波形干扰度进行优化，获得优化后的波形区间干扰度；S50，根据优化后的波形区间干扰度获得各波形区间的最优滤波窗口长度；S60，根据最优滤波窗口长度对各采样点处的回波信号进行滤波，得到滤波后的回波信号；根据所有采样点处滤波后的回波信号以及波形区间干扰度获得半导体基材涂膜的膜厚；所述根据优化后的波形区间干扰度获得各波形区间的最优滤波窗口长度，包括：根据优化后的波形区间干扰度获得各波形区间的滤波窗口调节因子；对于各次调节，计算其前一次调节的窗口长度与其前一次调节的窗口长度对应的滤波窗口调节因子的乘积，记为第二乘积；将第二乘积的向上取整值作为各次调节的窗口长度的预估长度增量；将各次调节后窗口的预估长度增量的二倍，作为各次调节的窗口长度的长度增加值；各次调节的窗口长度为其前一次调节后的窗口长度与所述长度增加值的和值；重复窗口长度调节过程，直至滤波窗口调节因子小于第一预设阈值或调节次数达到第二预设阈值为止；将最后一次调节得到的得到窗口长度作为最优滤波窗口长度。

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