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申请/专利权人：常州捷佳创精密机械有限公司
摘要：本实用新型属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种硅片正面粗洗模组，本装置包括：一种硅片正面粗洗模组，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有主动辊和被动辊，所述主动辊和所述被动辊上支撑有传送带；所述支撑架的顶部设置有清洁组件，所述清洁组件包括若干转动设置的清洁辊，所述清洁辊能够贴合所述传动带的顶部的硅片；所述支撑架的底部设置有自洁组件，所述自洁组件包括转动设置的自洁辊，所述自洁辊能够贴合所述传送带的底部的外壁；进一步的，通过自洁组件的设置，能够对传送带的表面进行清洁，即利用自洁辊的侧壁与传送带的表面的线速度差，使自洁辊对传送带表面进行清洁，保证传送带表面的洁净。
主权项：1.一种硅片正面粗洗模组，其特征在于，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有主动辊和被动辊，所述主动辊和所述被动辊上支撑有传送带；所述支撑架的顶部设置有清洁组件，所述清洁组件包括若干转动设置的清洁辊，所述清洁辊能够贴合所述传送带的顶部的硅片；所述支撑架的底部设置有自洁组件，所述自洁组件包括转动设置的自洁辊，所述自洁辊能够贴合所述传送带的底部的外壁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 常州捷佳创精密机械有限公司 一种硅片正面粗洗模组
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