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申请/专利权人：兰州空间技术物理研究所
摘要：本发明涉及表面工程领域，具体涉及一种含过渡层的多元合金吸气膜系及其制备方法。吸气膜系为双层结构，包括：过渡层和多元合金吸气膜层。过渡层的成分为铬Cr或钛Ti，厚度为10～100nm；多元合金吸气膜层的成分为Ti或Zr合金，厚度为1～5μm。按质量百分比计，多元合金吸气膜层的成分包括：50％～85％的Ti或Zr，10％～40％的辅助吸气元素，包括Co、V、Mn、Al中的一种，以及1％～10％的掺杂元素，包括Fe、Hf、Nb、Y、La、Ce、Pr、Nd中的一种或多种。制备方法采用直流磁控溅射。在基体表面沉积过渡层，再在过渡层表面沉积多元合金吸气膜层，形成双层吸气膜系结构。本发明有效提高膜基结合力，避免基体表面的放气和杂质的影响，吸气性能高，满足微机电系统器件的真空封装需求。
主权项：1.一种含过渡层的多元合金吸气膜系，其特征在于，包括：过渡层和多元合金吸气膜层，其中，所述过渡层沉积在基体表面，所述多元合金吸气膜层沉积在所述过渡层表面；所述过渡层为致密结构薄膜，厚度为10～100nm；所述多元合金吸气膜层为均匀分布有大量微裂纹的团簇结构薄膜，厚度为1～5μm；所述过渡层的材料为Ti或Cr，所述多元合金吸气膜层的材料为Ti合金或Zr合金。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 兰州空间技术物理研究所 一种含过渡层的多元合金吸气膜系及其制备方法
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