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申请/专利权人：国开启科量子技术(北京)有限公司;启科量子技术(珠海)有限公司
摘要：本发明公开了一种激光溅射原子发生装置，包括壳体、激光发射装置和金属材料；其中，壳体的顶端设有通孔，并且通孔与刀片型离子阱的囚禁区域对准；金属材料设于壳体内部；壳体内设有一通道，用于将激光发射装置生成的脉冲激光入射到金属材料的表面以溅射出原子，以及用于将溅射出的部分原子通过壳体顶端的通孔出射到刀片型离子阱的囚禁区域。本发明通过激光照射金属材料的表面，以溅射得出原子，无需加热，有利于低温的离子阱系统的运行，同时还可提高原子产生的效率。
主权项：1.一种激光溅射原子发生装置，其特征在于，包括：壳体、激光发射装置和金属材料；其中，所述壳体的顶端设有通孔，并且通孔与刀片型离子阱的囚禁区域对准；所述金属材料设于壳体内部；所述壳体内设有一通道，用于将所述激光发射装置生成的脉冲激光入射到金属材料的表面以溅射出原子，以及用于将溅射出的部分原子通过壳体顶端的通孔出射到所述刀片型离子阱的囚禁区域，其中，所述壳体、所述刀片型离子阱设于真空腔体的内部，所述激光发射装置设于真空腔体的外部，所述激光发射装置生成的脉冲激光通过所述真空腔体上的视窗入射到所述真空腔体内，通过所述壳体的通孔入射到所述壳体的通道内，进而入射到金属材料的表面；真空腔体的横截面为八边形；刀片型离子阱的囚禁区域的中心点与壳体的通孔的垂直距离为10mm～20mm。
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权利要求：
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