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溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体 

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申请/专利权人:JX金属株式会社

摘要:本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体。具体为,溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分,Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5100~45100,且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

主权项:1.一种溅镀靶,其含有Co及Pt作为金属成分,Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5100~45100,且含有Nb2O5作为金属氧化物成分,Nb2O5的含量为0.5mol%~5mol%,进一步含有Cr作为金属成分,Cr的含量为3.6mol%以下,或不含有Cr。

全文数据:

权利要求:

百度查询: JX金属株式会社 溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体

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