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申请/专利权人：华海清科股份有限公司
摘要：本申请涉及化学机械抛光技术领域，提供了一种电涡流传感器探头及化学机械抛光设备，所述电涡流传感器探头设置在化学机械抛光设备的抛光盘上，并与抛光垫接触，所述电涡流传感器探头包括：探头底座，设置有用于容纳探头本体的容纳空间；电磁屏蔽层，设置在所述探头底座上，且至少覆盖所述探头本体的测量端，用于屏蔽噪声；探头罩，固定设置在所述探头底座上，用于隔离所述电磁屏蔽层与化学机械抛光设备的抛光垫。通过在探头底座上设置至少覆盖探头本体的测量端，可以有效减少噪声对测量端的干扰，保证电涡流传感器的测量精度，并且通过设置探头罩，可以减少抛光垫的更换过程对电磁屏蔽层造成损耗，保证电磁屏蔽层的使用寿命较长。
主权项：1.一种用于化学机械抛光设备的电涡流传感器探头，其特征在于，所述电涡流传感器探头设置在化学机械抛光设备的抛光盘上，并与抛光垫接触，所述电涡流传感器探头包括：探头底座，设置有用于容纳探头本体的容纳空间；电磁屏蔽层，设置在所述探头底座上，且至少覆盖所述探头本体的测量端，用于屏蔽噪声；探头罩，固定设置在所述探头底座上，用于隔离所述电磁屏蔽层与化学机械抛光设备的抛光垫。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华海清科股份有限公司 电涡流传感器探头及化学机械抛光设备
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