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摘要:本发明提供一种测试结构以及TEM制样方法,测试结构包括:第一金属线、第二金属线以及通孔;第一金属线沿第一方向延伸,且多根第一金属线沿第二方向间隔排布;第二金属线沿第二方向延伸,且多根第二金属线沿第一方向间隔排布;第一金属线于部分交错点处通过通孔与第二金属线连接;其中,与通孔相邻的两根第二金属线在与通孔相对应的位置断开设置。如此配置,通过将与所述通孔相邻的两根所述第二金属线在与所述通孔相对应的位置断开设置,原本需要进行特殊制样的样品,可以变成常规样品,降低了制样的难度和分析成本;同时,在进行制样的过程中,操作人员能够根据截面结构的不同,判断目标金属线的位置,从而提高制样的成功率。
主权项:1.一种测试结构,其特征在于,包括:多根第一金属线、多根第二金属线以及多个通孔;所述第一金属线沿第一方向延伸,且多根所述第一金属线沿第二方向间隔排布;所述第二金属线沿所述第二方向延伸,且多根所述第二金属线沿所述第一方向间隔排布;多根所述第一金属线和多根所述第二金属线在第三方向上具有多个交错点;所述第一金属线于部分所述交错点处通过所述通孔与所述第二金属线连接;其中,与所述通孔相邻的两根所述第二金属线在与所述通孔相对应的位置断开设置。
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百度查询: 上海华力集成电路制造有限公司 测试结构以及TEM制样方法
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