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摘要：本发明涉及光刻机浸液供给技术领域，公开一种光刻机浸液供给系统，该光刻机浸液供给系统包括：串联的至少两个水箱组件，每个所述水箱组件用于衰减所述浸液的振动。在上述光刻机浸液供给系统中，沿浸液流动方向，第一个水箱组件可以将浸液的振动进行初步衰减，浸液在经过第一个水箱组件的过程中，振动被逐渐衰减，将浸液的动压转换为静压，即动‑静转换，在这个过程中，仍然会产生气泡，无法为光刻机提供品质较高的超纯水；经过第二个水箱组件进一步衰减振动后，由浸液的静压进一步衰减振动转换为没有振动的静压水，即静‑静转换，第二个水箱组件的入液压力从传统的动压变为静压，从而，获得几乎没有气泡的浸液。
主权项：1.一种光刻机浸液供给系统，其特征在于，包括：串联的至少两个水箱组件，每个所述水箱组件用于衰减所述浸液的振动。
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百度查询： 世源科技工程有限公司 中国电子工程设计院股份有限公司 一种光刻机浸液供给系统
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