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摘要：提供了一种次氯酸制备系统、其操作方法和半导体制造厂。次氯酸制备系统包括：次氯酸制备设备，包含：第一入口，其中从位在半导体制造厂中的洁净室所收集的硫酸通过第一入口而进入次氯酸制备设备；第二入口，其中次氯酸钠溶液通过第二入口而进入次氯酸制备设备；第三入口，其中去离子水通过第三入口而进入次氯酸制备设备；以出口，其中经由混合硫酸、次氯酸钠溶液、和去离子水在原位产生次氯酸，并通过出口而离开次氯酸制备设备。
主权项：1.一种次氯酸制备系统，其特征在于，包含：一次氯酸制备设备，包含：一第一入口，其中从位在一半导体制造厂中的一洁净室所收集的硫酸通过该第一入口而进入该次氯酸制备设备；一第二入口，其中次氯酸钠溶液通过该第二入口而进入该次氯酸制备设备；一第三入口，其中去离子水通过该第三入口而进入该次氯酸制备设备；以及一出口，其中经由混合硫酸、次氯酸钠溶液、和去离子水而在原位产生次氯酸，并通过该出口而离开该次氯酸制备设备。
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百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 次氯酸制备系统、其操作方法和半导体制造厂
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