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摘要：本发明公开了一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法。其中电子束光刻装备图像发生系统为核心部件，其能够将入射在孔中电子束进行偏转，将聚焦后的电子束流偏转到不同位置，达到在一个写场内不同点曝光的目的；通过控制芯片，利用传输线，将不同的电压加至图像发生系统顶端金属电极上；顶端电极与侧壁电极连通，通过调整加在顶端电极的电压调节侧壁电极电压以控制电场强度，实现对入射电子束的偏转和投影等功能，最终能将束斑投影至写场中的任一位置。
主权项：1.一种多电子束光刻装备图像发生系统，其特征在于，包括电子枪及准直系统1、束闸2、电子光学系统3及多电子束图像发生系统；所述多电子束图像发生系统与电子枪及准直系统1、束闸2、电子光学系统3通过孔轴中心组装；高能电子束经电子枪发出后由准直系统1准直，再由电子光学系统3进行聚焦后，通过在多电子束图像发生系统的侧壁施加不同的电压而形成电势差，依靠电势差所形成的电场对已经完成收束聚焦的电子束进行偏转，从而达到电子束在同一写场不同位置曝光的目的；不同写场之间的切换由工件台的移动实现；束闸2用以控制电子束曝光开光，仅在需要曝光时打开；所述多电子束图像发生系统由衬底5、衬底正面介质层4、侧壁绝缘层6、侧壁电极扩散阻挡层7、侧壁金属电极8、顶端金属电极9组成；衬底正面介质层4设置于衬底5上，所述顶端金属电极9设置于衬底正面介质层4上，衬底5的侧部为侧壁金属电极8，侧壁金属电极8通过侧壁电极扩散阻挡层7、侧壁绝缘层6与衬底5连接。
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百度查询： 湖南大学 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) 一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法
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