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摘要:本发明属于材料制备技术领域,公开了一种基于磁控溅射的ErDx制备方法及产品,将磁控溅射设备的2真空抽至低于2×10‑3Pa,然后通入Ar气;在Ar气条件下,对铒靶进行预溅射;预溅射结束后,控制Ar气和D2气的总气压为0.3‑1.0Pa,并且D2气与Ar气的流量比在2:3‑4:3;控制溅射电源对铒靶进行溅射,至基底上的ErDx达到设定厚度,得到ErDx薄膜。本发明基于磁控溅射技术,通过控制气体流量和溅射功率便可实现ErDx的制备,能够提升氘化物中氘的含量,且极大降低含氧量,提高了制备效率,适于在本领域内推广使用。
主权项:1.一种基于磁控溅射的ErDx制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1将磁控溅射设备的真空抽至低于2×10-3Pa,然后通入Ar气;S2在Ar气条件下,对铒靶进行预溅射;S3预溅射结束后,控制Ar气和D2气的总气压为0.3-1.0Pa,并且D2气与Ar气的流量比在2:3-4:3;S4控制溅射电源对铒靶进行溅射,至基底上的ErDx达到设定厚度,得到ErDx薄膜;所述溅射电源为脉冲电源或射频电源;当溅射电源为脉冲电源时,控制其电流为100-500mA、匹配电压为300-550V、占空比为30%-100%;当溅射电源为射频电源,控制其功率为150-300W。
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百度查询: 四川大学 基于磁控溅射的ErDx制备方法及产品
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