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摘要：本发明涉及一种用于减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯polyhydroxystyrene的光致抗蚀剂图案的微桥缺陷改善用工艺液体组合物及利用其的图案形成方法，其中，所述工艺液体组合物包括：0.0001至1重量％的碱性物质；0.0001至1重量％的HLB值为9至16的非离子表面活性剂；及98至99.9998重量％的水。本发明减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯的光致抗蚀剂图案的微桥缺陷数，且具有线宽粗糙度LWR值低而提升图案的均匀度的效果。
主权项：1.一种洗涤用工艺液体组合物，用于减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯的光致抗蚀剂图案的微桥缺陷，其特征在于，所述工艺液体组合物由：0.01至1重量%的HLB值为12至16的非离子表面活性剂；0.01至1重量%的碱性物质；及98至99.98重量%的水；构成，所述非离子表面活性剂为聚氧乙烯烷基醚，所述碱性物质为四丁基氢氧化铵。
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百度查询： 荣昌化学制品株式会社 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法
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