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摘要：本实用新型公开一种化学气相沉积设备的加热装置，涉及半导体制造技术领域，旨在实现在简易结构下化学气相沉积设备的加热装置均匀加热；包括壳体、密封盖组件、进气总成、出气总成和加热衣；壳体具有反应室，固态反应物经过顶面开口置于反应室内；密封盖组件盖设于顶面开口；进气总成包括进气管和气源，进气管的一端延伸入反应室内，另一端与气源连通；出气总成包括出气管，出气管的一端延伸入反应室内，另一端与反应腔体连通；加热衣，包覆在壳体的外周以及出气管，对反应室进行加热使其内部盛装的固态反应物气化；本实用新型将加热衣包覆在壳体的外周以及出气管，使整个加热装置稳定加热，实现在简易结构下，于加热装置内进行化学反应。
主权项：1.一种化学气相沉积设备的加热装置，所述化学气相沉积设备具有反应腔体，其特征在于，所述加热装置包括：壳体，具有反应室，所述反应室的顶面设有开口与所述反应室相连通；固态反应物经过所述顶面开口置于所述反应室内；密封盖组件，盖设于所述顶面开口，用于对所述反应室进行密封；进气总成，包括进气管和气源，所述进气管的一端延伸入所述反应室内，另一端与气源连通；出气总成，包括出气管，所述出气管的一端延伸入所述反应室内，另一端与所述反应腔体连通；加热衣，包覆在所述壳体的外周以及所述出气管，对所述反应室进行加热使其内部盛装的固态反应物气化；其中，所述气源输出的气体同所述固态反应物气化后形成的混合气体流经所述出气管进入所述反应腔体内。
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