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摘要：本发明公开一种黑膜及其制备方法、光学器件，涉及光学技术领域，该方法包括：在基板上利用至少两种靶材通过磁控溅射沉积第一复合吸收涂层；在所述第一复合吸收涂层上沉积减反射膜层。该黑膜及其制备方法、光学器件具有抗划伤、耐腐蚀的优点，能够解决现有技术中因采用金属材料制得吸收涂层而导致制得的黑膜存在易划伤和易腐蚀的问题，扩大了黑膜的适用范围。
主权项：1.一种黑膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上利用至少两种靶材通过磁控溅射沉积第一复合吸收涂层；在所述第一复合吸收涂层上沉积减反射膜层。
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百度查询： 浙江水晶光电科技股份有限公司 一种黑膜及其制备方法、光学器件
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