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一种高透光高导电的IMI型透明电极制备方法及其应用 

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摘要:本申请公开了一种高透光高导电的IMI型透明电极制备方法及其应用,包括:制备空白玻璃组;在空白玻璃上分别镀不同掺氧比例但厚度相同的ITO单膜,测试平均方阻值以及平均可见透过率AVT得到最佳掺氧比例;在空白玻璃上分别镀不同厚度的ITO膜,然后分别在ITO单膜上镀相同厚度的金属,最后在金属层上镀不同厚度的ITO膜,测试每组三明治电极的性能得到最佳ITO镀膜厚度;分别制备单层膜玻璃组和双膜夹金属玻璃组进行性能测试得到最佳金属层厚度;采用最佳掺氧比例、最佳ITO镀膜厚度以及最佳金属层厚度制备得到IMI型透明电极,本透明电极能够兼顾电极结构的导电性和透光性,适用于有机太阳电池。

主权项:1.一种高透光高导电的IMI型透明电极制备方法,其特征在于,包括:S1、制备空白玻璃组:将空白玻璃进行超声清洗并烘干备用;S2、制备镀单膜玻璃组确定最佳掺氧比例:在空白玻璃上分别镀不同掺氧比例但厚度相同的ITO单膜,测试方阻大小并计算得出平均方阻值,再测试透过率并计算平均可见透过率AVT,基于平均可见透过率AVT和平均方阻值得到最佳掺氧比例;S3、制备镀双膜夹金属玻璃组确定最佳ITO镀膜厚度:在空白玻璃上分别镀不同厚度的ITO膜,然后分别在ITO单膜上镀相同厚度的金属,最后在金属层上镀不同厚度的ITO膜,形成两层ITO膜夹金属的ITO-金属-ITO三明治电极结构,两层ITO膜均采用最佳掺氧比例,测试每组三明治电极的平均可见透过率AVT和平均方阻得到最佳ITO镀膜厚度;S4、确定最佳金属层厚度:S4.1、在空白玻璃上分别镀厚度为最佳ITO镀膜厚度两倍的ITO膜,然后在ITO单膜上镀不同厚度的金属,ITO膜采用最佳掺氧比例;S4.2、在空白玻璃上分别镀最佳ITO镀膜厚度的ITO膜,然后在ITO膜上镀不同厚度的金属,最后在金属层上镀最佳ITO镀膜厚度的ITO膜,两层ITO膜均采用最佳掺氧比例;S4.3、测试S4.1和S4.2中制得的电极的平均可见透过率AVT和平均方阻得到最佳金属层厚度;S5、采用最佳掺氧比例、最佳ITO镀膜厚度以及最佳金属层厚度制备得到IMI型透明电极。

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