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摘要：本发明的各种实施例针对一种单元蚀刻再沉积物的非破坏性检查的方法。在该方法的一些实施例中，捕获晶圆上的多个单元的灰度图像。灰度图像提供单元的俯视图，并且在一些实施例中，在蚀刻之后被原位捕获以形成单元。在灰度图像中识别单元，以确定对应于单元的非感兴趣区non‑ROI像素。从灰度图像减去非ROI像素，以确定ROI像素。ROI像素是减去之后的剩余像素，并且对应于单元的侧壁上和单元之间的凹槽中的材料。然后基于ROI像素的灰度级而对侧壁上和凹槽中的蚀刻再沉积物的量进行评分。此外，基于得分而处理晶圆。本发明的实施例还涉及单元蚀刻再沉积物的非破坏性检查的系统。
主权项：1.一种单元蚀刻再沉积物的非破坏性检查的方法，包括：捕获晶圆上的多个单元的灰度图像，其中，所述灰度图像提供俯视图，并且在完成蚀刻时被捕获以形成所述多个单元；在所述灰度图像中识别所述多个单元；从所述灰度图像减去所述灰度图像的对应于识别的所述多个单元的区；基于所述灰度图像的剩余部分处的剩余像素的灰度级，对所述多个单元的侧壁上以及所述多个单元之间的凹槽中的一定量的蚀刻残留物进行评分；以及取决于所述评分的得分是否超过第一阈值而不同地处理所述晶圆，其中，所述评分包括确定所述剩余像素的介于第二阈值和最大灰度级之间的所述灰度级的百分比，并且所述得分基于所述百分比且与所述百分比成比例。
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百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 单元蚀刻再沉积物的非破坏性检查的方法以及系统
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