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摘要：本实用新型涉及扩散设备技术领域，特别涉及一种炉管结构以及扩散设备。炉管结构中，第一管体设置有进气孔；第二管体套设在第一管体内，第二管体和第一管体之间形成进气腔，第二管体围设成排气腔，第二管体设置有多个通孔，进气孔、进气腔、通孔和排气腔依次连通。携源气体通过多个通孔进入到排气腔内，在携源气体能够覆盖硅片的情况下，携源气体可以更加均匀的进入到排气腔内，且进入到排气腔内的气流更加均匀。因此，携源气体通过多个通孔进入到排气腔内能够减少对排气腔内携源气体的扰动，避免产生涡流等情况，从而避免不同硅片之间，以及单个硅片的不同部位出现片间和片内方阻不一致的情况，有效改善片间和片内方阻均匀性。
主权项：1.一种炉管结构，其特征在于，所述炉管结构包括，第一管体（10），所述第一管体（10）设置有进气孔（11）；第二管体（20），套设在所述第一管体（10）内，所述第二管体（20）和所述第一管体（10）之间形成进气腔（30），所述第二管体（20）围设成排气腔（21）；所述第二管体（20）设置有多个通孔（22），所述进气孔（11）、所述进气腔（30）、所述通孔（22）和所述排气腔（21）依次连通。
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