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摘要：本实用新型提供了一种用于控制气流均匀性的进气喷嘴及其气相沉积设备，涉及气相、原子和等离子沉积设备技术领域。包括进气管道，所述进气管道包括主进气管，所述进气管道位于出气口的一端设置有外延管道；所述主进气管两侧形成有第一补气管道与第二补气管道，所述外延管道内活动设置有连接在所述主进气管端部的第一活动隔板与第二活动隔板以形成连接所述主进气管的喇叭口和连接所述第一补气管道的第一外延补气管、连接所述第二补气管道的第二外延补气管，所述第一活动隔板与第二活动隔板适于在所述主进气管端部摆动以调节所述第一外延补气管与第二外延补气管的开口大小。通过本方案可以使得反应气体在基板处更加均匀。
主权项：1.一种用于控制气流均匀性的进气喷嘴，包括进气管道，所述进气管道包括主进气管，其特征在于，所述进气管道位于出气口的一端设置有外延管道；所述主进气管两侧形成有第一补气管道与第二补气管道，所述外延管道内活动设置有连接在所述主进气管端部的第一活动隔板与第二活动隔板以形成连接所述主进气管的喇叭口和连接所述第一补气管道的第一外延补气管、连接所述第二补气管道的第二外延补气管，所述第一活动隔板与第二活动隔板适于在所述主进气管端部摆动以调节所述第一外延补气管与第二外延补气管的开口大小。
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百度查询： 厦门韫茂科技有限公司 用于控制气流均匀性的进气喷嘴及其气相沉积设备
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