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摘要：本实用新型提供一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构，涉及半导体制造技术领域。该原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构，包括恒温加热器，所述恒温加热器一侧设置有加热器一，所述恒温加热器另一侧设置有加热器二，所述恒温加热器另一侧设置有测温器，所述恒温加热器一侧设置有两个控制阀门，两个所述控制阀门一端均设置有进气阀门通路一，两个所述进气阀门通路一另一端固定有连接管路，所述连接管路另一侧设置有进气管路一。该原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构，通过设置的进气结构将不同反应通路完全分开，做到反应气体的定量定温调控作业，进而达到提高进气结构使用效果的作用。
主权项：1.一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构，包括恒温加热器1，其特征在于：所述恒温加热器1一侧设置有加热器一2，所述恒温加热器1另一侧设置有加热器二3，所述恒温加热器1另一侧设置有测温器4，所述恒温加热器1一侧设置有两个控制阀门5，两个所述控制阀门5一端均设置有进气阀门通路一6，两个所述进气阀门通路一6另一端固定有连接管路7，所述连接管路7另一侧设置有进气管路一8，所述连接管路7另一侧设置有进气管路二9，两个所述控制阀门5另一端均设置有进气阀门通路二10，两个所述进气阀门通路二10另一端均开设有进气孔11，两个所述控制阀门5另一端均设置有进气阀门通路三12，两个所述进气阀门通路三12另一端均固定有反应气体源瓶13。
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