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双色LED及其制备方法 

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摘要:本发明公开了双色LED及其制备方法,该方法包括:在衬底表面依次层叠形成N型层和掩膜层;去除部分掩膜层,以使掩膜层形成露出N型层的多个间隔的第一空白区,在每个第一空白区内形成纳米柱;在每个纳米柱顶面形成第一发光结构,并形成覆盖第一发光结构侧面的保护层;在每个纳米柱的至少部分侧面形成第二发光结构;在掩膜层表面形成覆盖第二发光结构表面的导电层;形成N电极、与每个第一发光结构对应的第一P电极以及与每个第二发光结构对应的第二P电极;其中,第一P电极设置于每个第一发光结构上,所述第二P电极设置于导电层上,N电极设置于N型层上。本发明实现纳米柱双色LED的集成;减少了发光结构之间的光学串扰;实现互联电极控制纳米柱。

主权项:1.一种双色LED的制备方法,其特征在于,包括:提供衬底1,在所述衬底1表面依次层叠形成N型层2和掩膜层3;去除部分掩膜层3,以使所述掩膜层3形成露出所述N型层2的多个间隔的第一空白区,在每个所述第一空白区内形成纳米柱4;在每个所述纳米柱4顶面形成第一发光结构5,并形成覆盖所述第一发光结构5侧面的保护层6;在每个所述纳米柱4的至少部分侧面形成第二发光结构7;在所述掩膜层3表面形成覆盖所述第二发光结构7表面的导电层8;形成N电极12、与每个所述第一发光结构5对应的第一P电极10以及与每个所述第二发光结构7对应的第二P电极11;其中,所述第一P电极10设置于每个所述第一发光结构5上,所述第二P电极11设置于所述导电层8上,所述N电极12设置于所述N型层2上。

权利要求:

百度查询: 江苏第三代半导体研究院有限公司 双色LED及其制备方法

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