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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2019-09-20
公开（公告）日：2025-01-14
公开（公告）号：CN119314849A
专利技术分类：..检测器；所采用的组件或电路[2006.01]
专利摘要：公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
专利权项：1.一种用于检查晶片的带电粒子束装置，包括：第一电子检测器件，用于检测用于所述晶片的检查的多个次级电子束；和第二电子检测器件，用于生成所述多个次级电子束的一个或多个束斑点的一个或多个图像，其中所述第二电子检测器件被配置为用于确定与所述第一电子检测器件相关联的对准特性。
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于对准多束检查装置中的电子束的系统和方法
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