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申请/专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日：2020-10-21
公开（公告）日：2025-01-14
公开（公告）号：CN112176321B
专利技术分类：..向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法[2006.01]
专利摘要：本发明涉及半导体集成技术领域，尤其涉及一种原子层沉积装置及原子层沉积方法。所述原子层沉积装置包括作业载台和箱体，作业载台为回转体，作业载台的侧壁上设置有至少两个独立设置的载片腔和用于间隔载片腔的间隔部，载片腔上设置有用于向载片腔内通气的气孔；箱体包括回转体容置部和至少两个独立设置在回转体容置部外侧的供源腔，回转体容置部套设在作业载台外；作业载台能够转动以使载片腔与供源腔相连通，便于供源腔向载片腔供给前驱体，或使间隔部遮盖供源腔的开口以隔断供源腔和载片腔，以便于对载片腔内的基片进行吹扫操作，从而将吹扫操作区和前驱体吸附区隔离开，减少吹扫时间，降低成本；且能够大大减少颗粒污染，提高产品良品率。
专利权项：1.一种原子层沉积装置，其特征在于，包括：作业载台1，其为回转体，所述作业载台1的侧壁上设置有至少两个独立设置的载片腔和用于间隔所述载片腔的间隔部13，所述载片腔的顶部和底部设置有气孔14，所述气孔14用于向所述载片腔内通气以对所述载片腔内的基片进行吹扫操作；箱体2，包括回转体容置部21和至少两个独立设置在所述回转体容置部21外侧的供源腔，所述回转体容置部21套设在所述作业载台1外，所述供源腔能够向所述载片腔供给前驱体；所述作业载台1能够转动，以使所述载片腔与所述供源腔相连通，或使所述间隔部13遮盖所述供源腔的开口；所述载片腔和所述间隔部13均为扇形，所述间隔部13的圆心角不小于所述载片腔的圆心角；所述供源腔的开口不大于所述载片腔的开口；所述供源腔为扇形，所述供源腔的圆心角等于所述载片腔的圆心角。
百度查询： 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 一种原子层沉积装置及原子层沉积方法
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