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申请/专利权人：湖北鼎龙控股股份有限公司;湖北鼎龙芯盛科技有限公司
申请日：2023-07-21
公开（公告）日：2025-01-21
公开（公告）号：CN119330864A
专利技术分类：.锍化物[2006.01]
专利摘要：本发明涉及锍化合物、正型抗蚀剂组合物和图案形成方法。该锍化合物具有式1所示结构：式1中，X、T各自独立的为直链、支链或环状C1‑C20二价烃基，其可以含有含杂原子的结构部分；Y为二价连接基；Z为下式1‑1表示的基团；n1为0或正整数；其中，R为直链、支链或环状C1‑C20一价烃、醇或苯酚，其可以含杂原子的结构部分，n2和n3各自独立地为0或正整数，n1+n2+n3≥1。包含特定结构的锍化合物作为PAG的正型抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如高感光度、改善的LWR和DOF，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。
专利权项：1.一种锍化合物，其特征在于，具有如下式1所示结构： 式1中，X、T各自独立的为直链、支链或环状C1-C20二价烃基，其可以含有含杂原子的结构部分；Y为二价连接基；Z为下式1-1表示的基团；n1为0或正整数； 其中，R为直链、支链或环状C1-C20一价烃、醇或苯酚，其可以含杂原子的结构部分，n2和n3各自独立地为0或正整数，n1+n2+n3≥1。
百度查询： 湖北鼎龙控股股份有限公司 湖北鼎龙芯盛科技有限公司 锍化合物、正型抗蚀剂组合物和图案形成方法
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