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申请/专利权人：赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司
申请日：2024-11-27
公开（公告）日：2025-01-21
公开（公告）号：CN119327808A
专利技术分类：
专利摘要：本发明提供了一种功率模块清洗装置，包括：底板，所述底板两端固设有垂直设置的电极板；立板，所述立板上固设有支撑板，立板与底板固定连接；转移框架，所述转移框架上开有与功率模块相匹配的凹槽；夹持组件，所述夹持组件用于和支撑板形成夹持功率模块的夹持位。本发明有益效果：通过垂直设置的电极板产生水平的等离子流，通过夹持组件夹持功率模块后撤离转移框架，使功率模块更好地暴露在等离子流中，提高了清洗效果。
专利权项：1.一种功率模块清洗装置，其特征在于，包括：底板201，所述底板201两端固设有垂直设置的电极板2；立板1，所述立板1上固设有支撑板101，立板1与底板201固定连接；转移框架3，所述转移框架3上开有与功率模块相匹配的凹槽302；夹持组件，所述夹持组件用于和支撑板101形成夹持功率模块的夹持位。
百度查询： 赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司 一种功率模块清洗装置
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