恭喜中国科学院兰州化学物理研究所程军获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院兰州化学物理研究所申请的专利一种宽温域高熵耐磨涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118932272B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411200105.1，技术领域涉及：C23C4/073；该发明授权一种宽温域高熵耐磨涂层及其制备方法是由程军;杨军;喇培清;刘维民;杨东升;孙奇春;陈文元;陈娟娟设计研发完成，并于2024-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种宽温域高熵耐磨涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种宽温域高熵耐磨涂层，该耐磨涂层为CrFeNiAl0.3Ti0.3‑Al‑HfMoNbTaTiC高熵耐磨涂层，其组分由质量分数为10%的Al，5~20%HfMoNbTaTiC高熵陶瓷相和余量的CrFeNiAl0.3Ti0.3高熵合金相构成。同时，本发明还公开了该涂层的制备方法。本发明选用新型单相HfMoNbTaTiC高熵陶瓷作为增韧抗磨相，有效改善了涂层宽温域耐磨损性能，其制备工艺简单、可控，在航空航天等高技术领域运动传动部件高温耐磨损应用领域具有重要应用前景。
本发明授权一种宽温域高熵耐磨涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种宽温域高熵耐磨涂层，其特征在于：该耐磨涂层为CrFeNiAl0.3Ti0.3-Al-HfMoNbTaTiC高熵耐磨涂层，其组分由质量分数为10%的Al，5~20%HfMoNbTaTiC高熵陶瓷相和余量的CrFeNiAl0.3Ti0.3高熵合金相构成；Al作为CrFeNiAl0.3Ti0.3高熵合金和HfMoNbTaTiC高熵陶瓷之间的粘结剂，提高涂层的致密度，并在高温滑动过程中形成富Al2O3的釉质层；该耐磨涂层是按照质量比称取CrFeNiAl0.3Ti0.3高熵合金粉末、Al粉末和HfMoNbTaTiC高熵陶瓷粉末，置于球磨罐中装入低能球磨机混合均匀获得喷涂复合粉末后，采用爆炸喷涂工艺在NiCrAlY过渡层表面制得。
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