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龙图腾网恭喜云南北方光学科技有限公司申请的专利BaF₂基底3.7-4.8μm&7.7-9.5μm双波段减反射膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113866852B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111280911.0，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权BaF₂基底3.7-4.8μm&7.7-9.5μm双波段减反射膜及其制备方法是由彭浪;杨伟声;张友良;董力;邓苑;李刚;谢海设计研发完成，并于2021-11-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本BaF₂基底3.7-4.8μm&7.7-9.5μm双波段减反射膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了BaF2基底3.7‑4.8μm7.7‑9.5μm双波段减反射膜及其制备方法，所述减反射膜包括基底层，所述基底层上依次设置有Y2O3层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnS层。本发明在实际应用中，可以有效解决BaF2材料光学零件容易脱膜的难题，能够有效提升减反膜的膜层牢固性和3.7‑4.8μm7.7‑9.5μm波段内光谱透过率。

本发明授权BaF₂基底3.7-4.8μm&7.7-9.5μm双波段减反射膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种BaF2基底3.7-4.8μm7.7-9.5μm双波段减反射膜的加工方法，其特征在于：该BaF2基底3.7-4.8μm7.7-9.5μm双波段减反射膜包括基底层，所述基底层上依次设置有Y2O3层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnS层；所述基底层上依次设置有厚度20±5nm的Y2O3层、厚度111±2nm的ZnSe层、厚度328±3nm的YbF3层、厚度640±5nm的ZnSe层、厚度86±0.5nm的Ge层、厚度81±1nm的ZnSe层、厚度350±3nm的Ge层、厚度71±1nm的ZnSe层、厚度147±1.5nm的Ge层、厚度89±1nm的ZnSe层、厚度171±2nm的YbF3层、厚度76±1nm的ZnSe层、厚度72±1nm的Ge层、厚度36±2nm的ZnSe层、厚度585±10nm的YbF3层、厚度130±3nm的ZnS层；该加工方法包括步骤S2，使用物理气相沉积镀膜设备，采用APS离子源辅助沉积方式，在基底层表面依次镀制Y2O3层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnS层。

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