恭喜全智芯(上海)技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜全智芯(上海)技术有限公司申请的专利模拟光刻胶形貌的方法、设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119535914B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510105891.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权模拟光刻胶形貌的方法、设备和介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本模拟光刻胶形貌的方法、设备和介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及模拟光刻胶形貌的方法、设备和介质。在此提出的方法包括：针对光刻胶的目标模拟区域处的多个光刻胶单元，确定与多个光刻胶单元对应的多个显影液浓度特征和多个光刻胶浓度特征；基于多个显影液浓度特征和多个光刻胶浓度特征，确定在显影后目标模拟区域处的显影液浓度分布和光刻胶浓度分布；以及基于显影液浓度分布和光刻胶浓度分布，确定目标模拟区域处的光刻胶形貌。
本发明授权模拟光刻胶形貌的方法、设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种模拟光刻胶形貌的方法，其特征在于，包括：针对光刻胶的目标模拟区域处的多个光刻胶单元，确定与所述多个光刻胶单元对应的多个显影液浓度特征和多个光刻胶浓度特征；基于所述多个显影液浓度特征和所述多个光刻胶浓度特征，确定显影过程中多个时间点上的显影液浓度和光刻胶浓度；针对所述多个时间点中的当前时间点，响应于所述当前时间点上的显影液浓度满足收敛条件并且显影过程达到设置时间，基于所述当前时间点上的显影液浓度和光刻胶浓度，确定在显影后所述目标模拟区域处的显影液浓度分布和光刻胶浓度分布；以及通过比对所述光刻胶浓度分布和光刻胶材料浓度的临界值，确定所述目标模拟区域处的光刻胶形貌。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人全智芯(上海)技术有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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