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龙图腾网恭喜芝浦机械电子装置株式会社申请的专利等离子体处理装置的检查方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115116874B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210136498.9，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权等离子体处理装置的检查方法是由吉森大晃;嘉瀬庆久;中泽和辉设计研发完成，并于2022-02-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理装置的检查方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种可准确地进行检查用晶片上的粒子的测定的等离子体处理装置的检查方法。实施方式的等离子体处理装置的检查方法包括：利用搬送部从第二腔室向第一腔室搬送检查用晶片的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第一腔室的搬送结束后，向所述第二腔室的内部供给气体的工序；在所述第一腔室内对所述检查用晶片进行等离子体处理的工序；利用所述搬送部从所述第一腔室向所述第二腔室搬送检查用晶片的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第二腔室的搬送结束后，向所述第二腔室的内部供给所述气体的工序；以及对附着于从所述第二腔室搬出的所述检查用晶片的粒子进行测定的工序。

本发明授权等离子体处理装置的检查方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置的检查方法，所述等离子体处理装置包括：第一腔室，维持较大气压经减压的气体环境，能够在内部载置处理物，通过产生等离子体的区域生成的等离子体生成物对所述处理物实施处理；第一排气部，能够将所述第一腔室的内部减压至规定压力；等离子体产生部，在产生所述等离子体的区域能够产生所述等离子体；第一气体供给部，为产生所述等离子体的区域供给工艺气体；第二腔室，经由闸阀与所述第一腔室连接，能够维持较大气压经减压的气体环境；搬送部，设置于所述第二腔室的内部，能够在所述第二腔室与所述第一腔室之间搬送所述处理物；第二排气部，能够将所述第二腔室的内部减压至规定压力；第二气体供给部，能够向所述第二腔室的内部供给气体；以及控制器，能够对所述搬送部、所述第二排气部、及所述第二气体供给部进行控制，且所述等离子体处理装置的检查方法包括第一粒子测定工序，所述第一粒子测定工序包括：在利用所述搬送部进行检查用晶片从所述第二腔室向所述第一腔室的搬送时，控制所述第二排气部，以使所述第二腔室内部的压力成为与所述第一腔室内部的压力大致同等的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第一腔室的搬送结束时关闭所述闸阀，控制所述第二气体供给部，而向所述第二腔室的内部供给所述气体使所述第二腔室内部的压力维持为1×10-1Pa以上的工序；在搬入了所述检查用晶片的所述第一腔室内进行等离子体处理的工序；在利用所述搬送部进行检查用晶片从所述第一腔室向所述第二腔室的搬送时，控制所述第二排气部，以使所述第二腔室内部的压力成为与所述第一腔室内部的压力大致同等的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第二腔室的搬送结束时，控制所述第二气体供给部，而向所述第二腔室的内部供给所述气体的工序；以及对附着于从所述第二腔室搬出的所述检查用晶片的粒子进行测定的工序。

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