恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司孙文凤获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利光刻机扫描系统及光刻机扫描系统远心异常校准方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114647154B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011533017.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权光刻机扫描系统及光刻机扫描系统远心异常校准方法是由孙文凤设计研发完成,并于2020-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻机扫描系统及光刻机扫描系统远心异常校准方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种光刻机扫描系统及刻机扫描系统远心异常校准方法,所述光刻机扫描系统通过在第一光源组件和可变狭缝组件之间设置用于发出第二出射光的第二光源组件,并在第二光源组件发出第二出射光,且测量单元被第二出射光照射到时,测量第二出射光照射到第一测量组件上形成的光斑的中心位置,以计算得到照明组件的远心。如此一来,通过在光刻机扫描系统中引入用于测量远心的第二光源组件,以避免使用用于光刻的第一出射光进行照明组件远心测量而导致的干扰问题。同时,可直接在光刻机扫描系统中完成远心的测量,以提升远心的测量和校准效率。
本发明授权光刻机扫描系统及光刻机扫描系统远心异常校准方法在权利要求书中公布了:1.一种光刻机扫描系统,其特征在于,包括依次设置的第一光源组件、具有可变狭缝组件的照明组件、掩模版、物镜以及工件台,其中,所述第一光源组件发出用于光刻的第一出射光; 第二光源组件,所述第二光源组件共轴设置于所述第一光源组件和所述可变狭缝组件之间,并用于发出第二出射光,其中,所述第二出射光的波长与所述第一出射光的波长不同; 第一测量组件,所述第一测量组件位于所述照明组件和所述掩模版之间,并位于所述第二出射光的光路上,且沿所述第二出射光的光轴可移动设置,用于测量所述第二出射光照射在所述第一测量组件上形成的光斑的中心位置,以得到所述照明组件的远心。
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