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申请/专利权人：杭州扬中科技有限公司
申请日：2015-08-24
公开（公告）日：2015-12-30
公开（公告）号：CN204907370U
专利技术分类：.植物的保护性覆盖物；铺设覆盖物的装置[2006.01]
专利摘要：本实用新型公开了一种降解地膜，旨在提供一种降解全面且降解速率高，环保的降解地膜，解决了地膜降解后不能有效的提高土壤质量，对植物的生长不能起到一个促进的作用的问题，其技术方案要点是全降解薄膜，所述全降解薄膜层的厚度为0.01-0.015mm，所述全降解薄膜上复合有菌肥层，所述菌肥层的厚度为0.008-0.01mm，所述菌肥层成条形间隔分布，所述条形的菌肥层的间隔距离为30-50cm，达到了降解后提高土壤肥力的效果，本实用新型适用于降解地膜技术领域。
专利权项：一种降解地膜，包括全降解薄膜，所述全降解薄膜层的厚度为0.01‑0.015mm，其特征在于：所述全降解薄膜上复合有菌肥层，所述菌肥层的厚度为0.008‑0.01mm，所述菌肥层成条形间隔分布，所述条形的菌肥层的间隔距离为30‑50cm。
百度查询： 杭州扬中科技有限公司 降解地膜
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