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申请/专利权人：上海机电工程研究所
申请日：2017-11-28
公开（公告）日：2018-05-08
公开（公告）号：CN108011176A
专利技术分类：.支持物；安装装置[2006.01]
专利摘要：本发明提供了一种新型阵面阵架结构，其包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧，本发明阵面阵架空间利用率高，曲率半径和表面积最大化；阵面阵架为铝制骨架蒙皮结构，有利于减轻质量；阵面阵架自重小，有利于减小变形和提高刚度。
专利权项：一种新型阵面阵架结构，其特征在于，包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧。
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