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申请/专利权人:上海机电工程研究所
申请日:2017-11-28
公开(公告)日:2020-07-14
公开(公告)号:CN108011176B
专利技术分类:.支持物;安装装置[2006.01]
专利摘要:本发明提供了一种新型阵面阵架结构,其包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台,暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部,加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部,阵面阵架固定在加强架上,转台位于加强架一侧,本发明阵面阵架空间利用率高,曲率半径和表面积最大化;阵面阵架为铝制骨架蒙皮结构,有利于减轻质量;阵面阵架自重小,有利于减小变形和提高刚度。
专利权项:1.一种阵面阵架结构,其特征在于,包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台,暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部,加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部,阵面阵架固定在加强架上,转台位于加强架一侧;所述暗室包括地面为矩形的阵面阵架空间;所述阵面阵架为旋转球形扇面,沿暗室水平截面的对角线放置。
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