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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2017-03-28
公开（公告）日：2018-12-21
公开（公告）号：CN109073992A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种方法，包括：获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量，该测量是使用测量辐射获得的；以及从测量导出图案化工艺的感兴趣参数，其中感兴趣参数由堆叠差异参数校正，堆叠差异参数表示目标的相邻周期性结构之间或量测目标与衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。
专利权项：1.一种方法，包括：获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量，所述测量是使用测量辐射获得的；以及从所述测量导出所述图案化工艺的感兴趣参数，其中所述感兴趣参数由堆叠差异参数校正，所述堆叠差异参数表示所述目标的相邻周期性结构之间或所述量测目标与所述衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。
百度查询： ASML荷兰有限公司 堆叠差异的确定和使用堆叠差异的校正
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