龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：株式会社V技术
申请日：2013-07-18
公开（公告）日：2018-04-03
公开（公告）号：CN104755648B
专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种成膜掩膜，用于使蒸镀材料覆盖于基板上而形成薄膜图案，在该成膜掩膜中，具备：薄板状的磁性金属部件1，其在与上述薄膜图案相对应的位置设置有形状尺寸比该薄膜图案大的贯通孔4；和树脂制的薄膜2，其与上述磁性金属部件1的一个面紧贴而设置，且在上述贯通孔4内在与上述薄膜图案相对应的位置形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案5，且可见光可透过薄膜2，上述开口图案5设置于开口图案形成区域7内，该开口图案形成区域7在上述贯通孔4内由上述磁性金属部件1的厚度与上述蒸镀材料相对于上述薄膜面的最大入射角度所决定的蒸镀的阴影的区域6所包围。
专利权项：一种成膜掩膜，用于使蒸镀材料覆盖于基板上而以恒定的排列间距排列形成多个薄膜图案，所述成膜掩膜的特征在于，具备：薄板状的磁性金属部件，其设置有以与所述薄膜图案相同的排列间距排列且形状尺寸比该薄膜图案大的贯通孔；和树脂制的薄膜，其与所述磁性金属部件的一个面紧贴而设置，且在所述贯通孔内在与所述薄膜图案相对应的位置形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案，且可见光可透过该薄膜，所述开口图案设置于由蒸镀的阴影的区域所包围的区域内，该蒸镀的阴影的区域在所述贯通孔内由所述磁性金属部件的厚度与所述蒸镀材料相对于所述薄膜面的最大入射角度所决定，所述由蒸镀的阴影的区域所包围的区域的在与所述贯通孔的排列方向相同的方向的宽度W1，至少等于将所述开口图案的在与所述贯通孔的排列方向相同的方向的宽度W2加上所述开口图案的在相同方向的位置偏移允许值α的2倍值2α所得的值W2+2α。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号