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申请/专利权人：旭化成株式会社
申请日：2002-10-23
公开（公告）日：2004-02-18
公开（公告）号：CN1476452A
专利技术分类：.还原，例如氢化[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种氢化共聚物，其通过对含有共轭二烯单体单元和乙烯基芳族单体单元的非氢化共聚物进行加氢而制得，含有该乙烯基芳族单体单元的聚合物嵌段H，并且具有以下特性：1该乙烯基芳族单体单元的含量，相对于该氢化共聚物的重量，超过60重量％，小于90重量％；2该聚合体嵌段H的含量为该非氢化共聚物重量的1重量％～40重量％；3重均分子量大于10万，在100万以下；4该共轭二烯单体单元的双键的加氢率为85％以上；5在由该氢化共聚物得到的示差扫描热量测定DSC图中，在－50～100℃的范围内基本上不存在结晶峰。
专利权项：1.一种氢化共聚物，其特征在于，通过对含有共轭二烯单体单元和乙烯基芳族单体单元的非氢化共聚物进行加氢而制得，含有至少一个该乙烯基芳族单体单元的聚合物嵌段H，并且具有下述1～5的特性：1该乙烯基芳族单体单元的含量，相对于该氢化共聚物的重量，超过60重量％，低于90重量％；2该聚合体嵌段H的含量为该非氢化共聚物重量的1重量％～40重量％；3重均分子量大于10万，在100万以下；4该共轭二烯单体单元的双键的加氢率为85％以上；5在由该氢化共聚物得到的示差扫描热量测定DSC图中，在-50～100℃的范围内基本上不存在结晶峰。
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