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申请/专利权人：英特斯特公司
申请日：2013-09-20
公开（公告）日：2015-07-22
公开（公告）号：CN104797980A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种照射晶圆的方法及一种设置用于照射晶圆的装置。多个辐射发射器发出辐射。遮罩允许由所述多个辐射发射器发出的电磁辐射的一部分穿过，且阻挡所述电磁辐射的另一部分穿过。
专利权项：一种照射装置，所述装置包括：多个辐射发射器，由所述多个辐射发射器发出电磁辐射；以及遮罩，其允许来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的一部分穿过，且阻挡来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的另一部分穿过。
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