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申请/专利权人：昭和电工株式会社
申请日：2007-01-31
公开（公告）日：2013-01-09
公开（公告）号：CN101696351B
专利技术分类：.抗静电材料[2006.01]
专利摘要：本发明的目的是提供在化学放大型抗蚀剂中对于防止起雾及膜减薄现象表现优异的抗静电剂、使用了该抗静电剂的抗静电膜及被覆物。本发明涉及含有水溶性导电高分子、溶剂及水溶性高分子的抗静电剂。通过将水溶性高分子，特别是具有多肽键的水溶性高分子化合物或具有聚乙烯基结构的特定水溶性高分子与水溶性导电高分子并用，即使使用可便宜而简单地赋予对抗蚀剂的涂布性的表面活性剂，也能在保持涂布性的同时，抑制对抗蚀剂产生的影响抗蚀剂溶解或抗蚀剂显影后形成的抗蚀剂起雾和膜减薄现象。通过含有表面活性剂来提高涂布性的抗静电剂对于化学放大型抗蚀剂和非化学放大型抗蚀剂均有抑制混合的效果。
专利权项：一种抗静电剂，含有水溶性导电高分子、溶剂及作为具有聚乙烯基结构的水溶性高分子的聚乙烯基己内酰胺。
百度查询： 昭和电工株式会社 抗静电剂、抗静电膜及抗静电膜被覆物
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